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通过金属溅射方式，对样品表面进行均匀的金属镀膜，实现非导电样品的导电处理，适宜于SEM观察；通过碳丝蒸发镀膜，对样品表面进行蒸镀均匀的碳膜，实现非导电样品的导电处理，适宜于SEM观察及能谱/波谱分析，或者为铜网表面覆碳支持膜。

"1、采用无油真空系统，隔膜泵×1+分子泵×1。
2、极限真空度优于2×10-6 mbar。
3、具有脉冲式碳丝蒸发功能。
3.1 一次可安装4组碳丝，单根或双根，自动检测和切换碳丝。
3.2 镀碳膜厚度：1-100 nm可调，自动终止，检测精度0.1 nm。
4、具有离子溅射镀金属功能。
4.1 溅射电流：0－150 mA，可调。
4.2 溅射时间：1－1800秒，可调。
4.3 镀金属膜厚度：1-1000 nm可调，自动终止，检测精度0.1 nm。
4、内置石英膜厚检测器，检测精度：0.1 nm，可指定镀膜厚度自动终止。
5、内置挡板，自动开启与关闭，用于预镀膜时防止污染。
6、全金属样品仓。采用方形金属样品仓设计，样品仓尺寸不小于宽：200 mm，深：150 mm，高：195 mm。样品仓带超大面积观察窗，样品仓内置LED照明，方便观察。
7、样品台可旋转，可倾斜，可调节高度，高度调节范围30-100 mm。
8、样品台直径不小于100 mm，带24孔，可插入24个SEM标准样品台。
9 内置式彩色触摸屏控制。
10、全自动控制，设定参数后，仪器自动抽真空，切换挡板，镀膜至指定厚度，放气，无需手动操作。"