（通用）磁控溅射薄膜系统（沉积）
[ 基础信息 ]
生产国家 : 中国
制造厂商 : 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
购置日期 : 2020-07-01
规格型号 : TRP450
[ 分类信息 ]
设备类型 : 10样品制备与加工
设备编号 : 2025548702
[ 联系信息 ]
联系人 : 张克伟
存放地址 : Array237
联系电话 : 13426205048
联系邮箱 : zhkw@qdu.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
循环水机、空气压缩机
主要功能及特色 :
各靶可独立/顺次/共同工作，可实现
单层膜溅射，复合膜溅射，多层膜交替或共溅射；全自动控制。
主要规格及技术指标 :
溅射靶:RF、MF、DC兼容；
基片尺寸：200mm；
极限真空度：6×10-5Pa；
基片台：室温-500℃，5～20 转/分。
