1.二轴样品台 2.SiC涂覆石墨加热器 3.红外测温仪 4.2个2英寸标准磁控靶枪 5.500W射频电源 6.4个三轴PLD靶枪 7.共有四路气体入口,其中2路0-100sccm 8. 腔体水冷降温 9. 控制软件
1.软件控制自转和直线运动,保证PLD制备薄膜在3英寸范围内均匀生长;配备红外测温仪监测衬底正面温度。2.2英寸标准磁控靶枪,配备500W射频电源一台;3.配备4个1英寸靶枪,PLD靶枪放置于腔体正下方。保证激光在靶材上均匀扫描,Z轴运动能够防止磁控污染PLD靶材;4.腔体采用CF150差分快开门,实现两级真空差分,降低快开门处漏率,进一步提高密封性。
1.二轴运动:自转,转速0-20rpm可调,Z轴直线运动,行程±20mm;2.加热温度范围:0-850℃,PID控温,精度±1 ℃;5.加热有效均匀温区3inch,样品表面温度均匀性±5 ℃,可以在100kPa高氧压下长期使用