（通用）高真空电子束蒸发系统
[ 基础信息 ]
生产国家 : 中国
制造厂商 : 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
购置日期 : 2019-12-12
规格型号 : PVD500
[ 分类信息 ]
设备类型 : 10样品制备与加工
设备编号 : 20212529aa
[ 联系信息 ]
联系人 : 赵宁
存放地址 : Array
联系电话 : 15866877591
联系邮箱 : 15866877591@qq.com
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
1.红外加热灯 四根
2 氟橡胶密封圈 铁岭橡胶研究所 1套 | 大门胶圈不 备 快接接头
3 无氧铜密封圈 沈阳科仪 CF16\35 各5件
4 泵、阀门紧固 压螺栓、螺母、 垫圈等 沈阳科仪 各10件
5 气路接头 沈阳科仪 直通、三 通 各3套
6 陶瓷绝缘垫 沈阳科仪 10个
7 石英晶振片 进口 10片
8 铅玻璃 沈阳科仪 C100mm 2片
9 石墨坩埚 沈阳科仪 8个
10 无氧铜坩埚 沈阳科仪 8个
11 电子枪灯丝 进口 5支
12 防污衬板 沈阳科仪 1套 产品配置清单
主要功能及特色 :
系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超净间间壁隔离操作面板一端处在相对要求较高超净环境，其余部分(含泵抽系统）处在相对要求较低超净环境。
主要规格及技术指标 :
系统可满足Au,Ni,Pt,Ti,Al等金属以及Si02、Ti02等氧化物材料在基片上均匀沉积多层膜的需要。
极限真空度:≤6.6x10~Pa(经烘烤除气后，连续抽气24小时):系统从大气(暴露大气时充干燥氮气，时间不超过5分钟)开始抽气，30分钟可达到5x10~' Pa;
膜厚均匀性:以4英寸衬底上200nm厚的金属薄膜为例，起伏不超过正负3%;
主机尺寸约:1800mm(宽)x1800mm(深)x1900mm(高)备注:机械泵与电子枪高压柜放置在主机外。
