(通用)微区纳米形貌测试系统

[ 基础信息 ]
生产国家 : 日本
制造厂商 : 日立
购置日期 : 2020-09-27
规格型号 : AFM5100N
[ 分类信息 ]
设备类型 :
设备编号 : 20210501aa
[ 联系信息 ]
联系人 : 于冰, 胡浩, 王秋博
存放地址 : Array200D
联系电话 : 15053265875
联系邮箱 : yubingqdu@163.com
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :

1、 主机1套
2、 控制器 1套
3、 自检测系统1套
4、 显微镜1套
5、 桌面被动减震台1套
6、 高分辨扫描器1套

主要功能及特色 :

可实现四通道同时最高2048×2048高像素采集,两通道同时最高4096×4096高像素采集。
具备图形叠加功能:实现形貌图像和物理性能图像的叠加,并可控制两种图像在叠加图像中所占的比例。

主要规格及技术指标 :

扫描器:标准型扫描器 扫描范围XY:20μm,Z:1.5μm
分辨能力:形貌分辨能力 XY:0.2nm, Z: 0.01nm
样品台:样品最大尺寸为:φ35mm×10mm (H) 。
使用自感应探针方式检测,无激光探测系统,无需调节激光光斑;
轻敲模式下,驱动探针振动的频率范围为1K~999K;
扫描旋转 ±180o (0.1o 步进)
样品移动:XY方向,手动,移动范围±2.5mm
Z方向,自动,移动范围10mm
低相干型半导体激光器,波长: 830 nm.

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[ 开放机时安排 ]
[ 参考收费标准 ]