配套耙材:5N 铜耙材 1000 克,5N 铝耙材 1000 克,4N5 钛耙材 1000 克。
可用于金属薄膜、介质膜等的制备。
主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等部分组成