1、曝光头一套；2、对准工件台一套；3、对准显微镜一套；4、电控系统一套；5、气动系统一套；6、真空泵一台（无油泵）；7、空压机一台（静音泵）管道

本主要用于制造小规模集成电路、半导体器件、红外器件、声表器件、微机电系统（MEMS）、微流控等，具有操作方便、性能稳定可靠等特点，该设备还可以为材料、物理、化学、电子、能源等相关学科提供实验支撑。

曝光面积：150mmX150mm；曝光波长：365nm；分辨力：0.8-1mm（胶厚≤1mm的正胶）；对准精度：±0. 6mm；掩模样片整体运动范围：X：15mm;Y:15mm；掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸、7英寸；样片尺寸：直径15mm-- 150mm（各种不规则片）可适应厚度0.1mm--5mm(可最大可拓展至15mm)；曝光方式：定时（倒计时方式），0.1s-999.9s；具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能；照明不均匀性： 2.5%（f100mm 范围）；5%（f150mm范围）；双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数400倍，光学+电子放大800倍；物镜三对：4倍、10倍、20倍；目镜三对：10倍、16倍、20倍；调平接触压力通过传感器保证重复；数字设定对准间隙和曝光间隙；具备压印模块接口，也具备接近模块接口；掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; q: ±6度；最大胶厚：500m(SU8胶)；光源平行性：2°；曝光能量密度：>25mW/cm²；冷却方式：循环水+风冷