3P风冷冷水机、电控系统、分子泵+直联选片泵+高真空阀门

适用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜。可用于多种薄膜材料的物理化学性能研究实验、集成电路半导体器件的原理研究实验、有机无机功能薄膜研究及太阳能电池研究实验等。

1.真空室
内部净尺寸φ550×700mm，立式前开门结构，SUS304不锈钢制造，双层冷却水套，炉内温度≧500℃，真空室顶部配置基片台引入孔位，以及KF25、KF40接口，顶部有加热器引入孔；真空室底部留有4个充气孔：侧壁留有4个电弧靶及磁控靶相应屏蔽挡板引入接口，真空室后部侧壁留有粗抽及精抽口，并配有均匀布气装置，门上配有一个带有防污染挡板的φ100mm观察窗；内表面抛光至0.8以上。
2.内衬板
内衬板为双层，材料为304不锈钢，同时外一层可拆卸互换使用，厚度1mm；共2套。
3 .旋转加热基片台
采用下坐式，数量1套，传动采用电机+减速机，转速可调，中心出轴，公转+自转+ 独立自转。
4 .抽气机组
采用“分子泵+直联选片泵+高真空阀门”组合的高真空系统。
F-200型分子泵1台，TRP-60机械泵1台，阀门管道材料为不锈钢，阀门采用气动挡板阀GDQ-J200高真空气动挡板阀1台；GDQ-J40高真空气动挡板阀2台；GFD-200高真空电动光栅阀1台；GD-25高真空气动放气阀1台及相应机组管道等组成，所有阀门均配 置到位检知开关。管道采用不锈钢材料制造，内表做面洁净处理，各关键位置配置波纹 管减震处理。可拆静密封采用氟橡胶圈密封，阀门及管道外表面抛光，前级管道预留KF25检漏接口。
5 加热系统
加热控制为真空室加热，内侧壁排有不锈钢远红外加热管。真空室加热温度至500℃， 控温精度±10℃， 具有升温速度快等特点，功率约为12kW左右，PID变送输出，基片台可以正常旋转。温控采用智能温控系统控温，分别测量转台附近温度和室内温度。