**离子溅射仪(2场发射扫描电镜20212113aa制样设备)

[ 基础信息 ]
生产国家 : 日本
制造厂商 : 日立
购置日期 : 2017-11-01
规格型号 : MC1000
[ 分类信息 ]
设备类型 : 9样品前处理设备
设备编号 : 20212115aa
[ 联系信息 ]
联系人 : 王宗花, 夏建飞
存放地址 : Array扫描电镜制样室
联系电话 : 15064803099
联系邮箱 : xiajianfei@126.com
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :

Pt靶

主要功能及特色 :

混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件,可处理较厚或较大的样品(选配件),记忆功能可存储常用加工条件,采用磁控型电极,最大限度地减轻对样品的损坏。

主要规格及技术指标 :

1、样品仓大小:硼硅酸盐玻璃工作腔室,150mm (内径)x 125mm (髙)
2、靶面至样品台距离:可调范围为20-50mm
3、溅射电流:0-40mA
4、溅射时间:0~999s
5、溅射速率:(在压力为7Pa,放电电流40mA,靶材距离样品30mm时)Pt为15nm/min,Pt-Pd 为 20nm/min, Au为35nm/min, Au-Pd为25nm/min
6、最大样品尺寸:直径60mm,高度20mm

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[ 开放机时安排 ]
[ 参考收费标准 ]