[ 基础信息 ]
生产国家 : 日本
制造厂商 : 日立
购置日期 : 2017-11-01
规格型号 : Regulus8100
[ 分类信息 ]
设备类型 : 2微区分析
设备编号 : 20212113aa
[ 联系信息 ]
联系人 : 王宗花, 吕莉莉, 姜荣, 曹喜玥, 夏建飞, 王晓, 王亚男
存放地址 : Array场发射扫描电镜室
联系电话 : 15064803099
联系邮箱 : xiajianfei@126.com
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
1.冷场发射扫描电镜主机（包括冷场发射电子枪1套；电子束减速功能1套；髙位二次电子探测器1套；低位二次电子探测器1套；4英寸样品预抽室1套
2. 电制冷能谱仪1套
3. 离子溅射仪（Pt） 1台
主要功能及特色 :
该电镜主要用于材料的微观表面观察与成分分析，包括纳米结构材料的观察和表征。此外，还要求对一些容易受电子束损伤的样品和导电性非常差的样品可以在低加速电压和进行直接观察。
主要规格及技术指标 :
1、分辨率：
≤0.8nm （加速电压 15kV）
≤2.Onm （加速电压 1kV）
≤1.1nm （照射电压1kV,使用减速装置）
2、加速电压：最低 0.1kV；最高 30kV； 0.1kV/步
3、放大倍数：最小≥20倍；最大≤100万倍（底片模式）最小≥60倍；最大≤200万倍（显示器模式）
4、工作距离：最小≥1. 5mm，最大≤ 30mm
5、电子束流：≥1pA,且连续可变
6、物镜光栏：内外加热自清洁式，四孔，可移动物镜光栏（光阑的加热自清洁可以能保证光阑洁净，可长时间使用，不需更换）
7、样品台：5轴自动马达驱动
8、二次电子检测器：配有高位以及低位二次电子探测器，高位探测器可选择接受二次电子像或背散射像，并以任意比例混合，在低压下（小于2kV）可以成背散射电子像。
