高能电子衍射仪-STAIB牌; 准分子激光器-Coherent牌

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。
单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）

压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）

铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）

热电薄膜（SrTiO3）

金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）

半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）

高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）

超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）

光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）

超疏水薄膜（PTFE）

红外探测薄膜（V2O5，PZT）

激光分子束外延系统(LMBE) , 是在PLD的基础上发展起来的外延薄膜生长技术。

在高氧气压力环境下实现RHEED原位监控，曾是RHEED分析的一一个重要难题, TSST第一个提出差分抽气的方式实现高压环境下RHEED原位监£--TOrrRHEED , TSST是TorrRHEED的发明人,在系统制造和RHEED的使用,以及结果分析方面,有丰富的经验。
激光分子束外延系统
脉冲激光沉积系统
真空腔体
腔体形状
|圆柱形，球形*
圆柱形,球形*
本底真空
< 108 mbar, 5.0x10-10 mbar*
<10-7 mbar, <10-8 mbar*
抽气系统
分子泵(700 /min),钛升华泵*,离子泵*
|分子泵(300 l/min),分子泵(700 l/min) *
烘烤*
加热带,烘烤罩
|加热带
工艺气体/气压
O2, Ar, N2, O3自动气压控制
O2, Ar, N2自动气压控制*