[ 基础信息 ]
生产国家 : 日本
制造厂商 : Samco
购置日期 : 2021-03-23
规格型号 : RIE-1C
[ 分类信息 ]
设备类型 : 10样品制备与加工
设备编号 : 20203994ss
[ 联系信息 ]
联系人 : 杨振宇, 李扬
存放地址 : Array401
联系电话 : 15253201859
联系邮箱 : wfxie@qdu.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
无
主要功能及特色 :
1、刻蚀钝化材料如氮化硅、二氧化硅和氧氮化硅。
2、金属间介电层的刻蚀及剖面调整。
3、失效分析用集成电路板上残留封装材料的刻蚀。
4、光刻胶和聚酰亚胺的刻蚀。
5、硅、多晶硅、难熔金属、硅化金属、旋涂玻璃等的刻蚀。
主要规格及技术指标 :
反应室：石英，212mm
下电极：铝，120mm，水冷
射频功率：13.56MHZ，200W晶振频率，手动匹配
进气管：两条
压力测量：隔膜表（0-2.66*102pa）
真空系统：干泵（500L/min）
尺寸：主机（宽400mm*深440mm*高325mm）
支架（宽400mm*深620mm*高798mm）
