[ 基础信息 ]
生产国家 : 中国
制造厂商 : 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
购置日期 : 2021-03-23
规格型号 : PVD400
[ 分类信息 ]
设备类型 : 10样品制备与加工
设备编号 : 20201601aa
[ 联系信息 ]
联系人 : 宿杰
存放地址 : Array401
联系电话 : 15063912123
联系邮箱 : jsu@qdu.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
无
主要功能及特色 :
1、极限真空度，可达6.6X10-5Pa；
2、抽速快，抽气20-30分钟内可做实验；
3、真空室内外表面经过特殊电化学抛光处理，可持久保持洁净真空状态；
4、新型磁控溅射靶，提高靶材利用率及膜厚均匀性；
5、新型样品台，旋转、升降更顺畅，模块化结构设计；
6、新型质量流量控制器，高精度控制进气；
7、脂润滑分子泵抽速快，缩短抽气时间，并提供洁净真空环境；
8、 整机一体式设计结构，美观大方，并采用触摸屏集成自动控制方式，操作更集中、更便捷。
主要规格及技术指标 :
1、极限真空度：优于6.6X10-5Pa；
2、抽速：30分钟可达到6.6X10-4Pa；
3、磁控溅射靶：2英寸x3套；
4、直流溅射电源：500Wx2套；
5、射频溅射电源：500Wx1套；
6、样品尺寸：4英寸x1片；
7、样品温度：600℃；
8、脂润滑分子泵：1套；
9、无油涡旋干泵：1套；
10、自动控制系统：1套；
11、冷却水路系统：1套
