[ 基础信息 ]
生产国家 : 中国
制造厂商 : 北京泰科诺
购置日期 : 2020-06-05
规格型号 : JCP-350M2
[ 分类信息 ]
设备类型 : 10样品制备与加工
设备编号 : 20170567aa
[ 联系信息 ]
联系人 : 何宏伟
存放地址 : Array304
联系电话 : 17853292668
联系邮箱 :
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
机台整机规格 3000(W) * 1800(D) * 2400(H)mm
电源 AC380V，50/60Hz，三相五线70KW
气源 0.5～0.8MPa，干燥，设备配6MM气管快接
额定功率 50KW
机台总重 约3000kg
回圈冷却水用量 约200L纯水
真空泵排风 ≥3立方/分钟，中央尾气处理管道即可、直径50MM
系统环境温度要求 ≤30℃（室温最佳）
工艺气体要求 0.5～0.8MPa：O2=99.99%；N2=99.99%；Ar2=99.99%（H2=99.99%特殊材料考虑用氢气）6MM快接
场地需求 建议4000*3000*2500
主要功能及特色 :
1.设备可溅射/蒸发两用；占地面积小，价格便宜，性能稳定，使用维护成本低；
2.可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；
3.镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；
4.单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。
主要规格及技术指标 :
1.真空腔室结构:立式上开盖结构，后置抽气系统，气动提开式
2.真空腔室尺寸:Φ350×H350mm
3.加热温度:室温〜500℃
4.溅射方式:向上溅射
5.旋转基片台:Φ120mm
6.膜厚不均匀性:Φ75mm范围内≤±5.0％
7.溅射靶/蒸发电极:Φ2英寸磁控靶2支，预留1个靶位
8.工艺气体: 2-3路气体流量控制
9.控制方式: PLC控制/工控机全自动控制可选
10.占地面积:（主机）L1600×W800×H1700mm
11.总功率:≥10KW
